力争2027年量产2nm!日本接收首台EUV光刻机:重71吨、四阶段安装

业界
2024
12/19
13:55
快科技
分享
评论

12月19日消息,据报道,日本初创晶圆代工厂Rapidus已成功接收其订购的首台ASML EUV光刻机,这是日本境内首次引入量产用EUV光刻设备。

Rapidus也成为日本首家拥有EUV光刻机的公司,由于EUV系统体积庞大,完整设备重达71吨,将分四阶段进行安装,预计本月底在晶圆厂内完成。

Rapidus首席执行官小池淳义在新千岁机场举行的典礼上表示,公司将从北海道和日本向全球提供最先进半导体。

Rapidus计划2025年春季完成2nm芯片原型开发,并在2027年实现量产,相比之下台积电则计划2025年开始量产2nm芯片。

ASML是目前全球唯一的EUV光刻机供应商,每台设备成本约1.8亿美元以上,去年全球仅交货了42台。

资料显示,日本曾在1980年代占据全球超过50%的半导体市场份额,但到2000年代已退出先进逻辑制程芯片的竞争。

Rapidus的成立旨在重振日本先进芯片的生产能力,降低对进口芯片的依赖,日本政府目标到2030年实现国内半导体销售额达15万亿日元,达到2020年的三倍。

【来源:快科技

THE END
广告、内容合作请点击这里 寻求合作
EUV
免责声明:本文系转载,版权归原作者所有;旨在传递信息,不代表砍柴网的观点和立场。

相关热点

7 月 23 日消息,韩媒 The Elec 本月 17 日报道称,三星电子预计于明年推出的 2nm 先进制程将较现有 3nm 工艺增加 30% 以上的 EUV 曝光层数,达“20~30 的中后半段”。
业界
数十年来,在摩尔定律推动下,半导体行业一派向好。
业界
ASML 在 imec 的 ITF World 2024 大会上宣布,其首台高数值孔径机器现已创下新的芯片制造密度记录,超越了两个月前创下的记录。
业界
从相关报道看来,Hyper-NA EUV 和高生产力工具是 ASML 未来十年的主要目标。
业界
4 月 29 日消息,据三星官方新闻稿,三星电子会长李在镕于当地时间 26 日访问蔡司位于德国奥伯科亨的总部,并于蔡司 CEO 卡尔・兰普雷希特等就加强两家公司的合作进行了讨论。
业界

相关推荐

1
3