ASML:2022年将生产超50台EUV光刻机设备

业界
2022
12/09
12:50
集微网
分享
评论

据TheElec报道,ASML近日在“2022半导体EUV生态系统全球大会”上指出,预计今年EUV生产台数将超过50台。

2019年ASML的EUV设备生产台数为22台,如今已增加到2021年的42台。ASML表示有信心今年将超过50台,明年生产台数将进一步增加。

目前半导体行业最关心的问题之一是引进High-NAEUV设备的时间点。ASML透露,High-NA EUV设备将于明年年底推出初始版本,量产型号将于2024年底或2025年初推出。

据etnews报道,ASML财报称,在High-NA EUV业务中,公司收到了TWINSCAN EXE:5200的额外订单,所有当前的EUV客户都已经下单了下一代半导体设备“High-NA”,这其中包括三星和SK海力士。

最先进工艺的竞争预计将加剧。继台积电和英特尔之后,韩国半导体制造商也在准备引进能够实现2nm工艺的设备。如果单看技术,三星只落后于台积电半年时间。但从市场统计来看,三星在全球芯片代工市场份额占比仅为台积电三分之一。

High-NA EUV设备是将集光能力的镜头数值孔径(NA)从0.33提高到0.55的设备。比现有的EUV设备处理更精细的半导体电路。业界大多数人认为,High-NA设备对2nm工艺至关重要。

据推测,High-NA EUV光刻机的单价为5000亿韩元,是现有EUV光刻机的2倍。业内人士指出,如果三星电子购买10台High-NA EUV光刻机,将需要5万亿韩元以上的费用。为了提高韩国的国家产业竞争力,有必要扩大政府的支援。

【来源:集微网

THE END
广告、内容合作请点击这里 寻求合作
ASML
免责声明:本文系转载,版权归原作者所有;旨在传递信息,不代表砍柴网的观点和立场。

相关热点

9 月 28 日消息,ASML 首席技术官 Martin van den Brink 日前接受 Bits & Chips 的采访时表示,目前公司正有序推行其路线图,在 EUV 之后是 High-NA EUV 技术。
业界
作为产业链上的重要一环,ASML并不是“独行侠”,而是开放合作的行业发展理念的积极倡导者。
业界
6 月 30 日消息,据 BusinessKorea 报道,三星电子副董事长李在镕于 6 月中旬结束了对欧洲的商务访问,此行他与 ASML 公司就引进该荷兰半导体设备制造商的下一代极紫外(EUV)光刻设备进行了会谈。
业界
据彭博社报道,由于业务发展迅速,荷兰光刻机巨头ASML计划今年将在大陆地区招聘200名员工,使其员工规模从1400人扩大约14%。
业界
5 月 20 日消息,据路透社报道,ASML 正在研发一款半导体新光刻机,价值 4 亿美元,大约有双层巴士大小,而且重量超过 200 吨,将用于生产下一代芯片,芯片终端领域可覆盖手机、笔电、汽车、AI 等。
业界

相关推荐

1
3